コア生産技術
材料・デバイスプロセス技術
ナノメートルからメートルスケールまでの構造体・デバイス・ システムを対象に、メカニズム理解に基づいた製造プロセスや処理プロセスの生産性向上および新規技術の提案を目指して、加工技術・反応制御技術・解析技術などを研究開発しています。
![[イメージ] 材料・デバイスプロセス技術](/content/dam/toshiba/migration/corp/manufacturingAssets/cmc/rd/core/img/micro/top.jpg)
プロセス・分析・シミュレーション
エネルギー・社会インフラ・電子デバイスなどの製品製造で必要となる各種のプロセス技術および材料、分析、シミュレーションなどのコア技術の研究開発を進め、製品の早期量産化や生産性向上に寄与しています。多機能ナノファイバー膜の形成と応用といったユニークなプロセス技術の研究開発を行っています。
![[イメージ] エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成](/content/dam/toshiba/migration/corp/manufacturingAssets/cmc/rd/core/img/micro/1.jpg)
エレクトロスピニング法によるナノファイバ機能膜形成
![[イメージ] 原子層エッチングによる微細加工](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/2.jpg)
原子層エッチングによる微細加工
![[イメージ] 乾燥現象のシミュレーション/機械学習活用](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/3.jpg)
乾燥現象のシミュレーション/機械学習活用
![[イメージ] 開発薬液による基材表面の清浄化](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/4.jpg)
開発薬液による基材表面の清浄化
新規デバイス開発とプロセス応用
塗布プロセス、真空プロセス、薬液プロセス、流体制御などに関する多くの技術や知見をベースとして、実験装置を設計・試作し、最新の計測技術やシミュレーション技術を適用した解析・評価を行うことで、プロセスの性能向上や低コスト化を実現します。
また、新規デバイスのコンセプト提案から基礎設計、試作による実証を行い、新規製品の上市に向けた取り組みを行っています。
![[イメージ] 3D配向型コラーゲンナノファイバーシート](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/5.jpg)
3D配向型コラーゲンナノファイバーシート
![[イメージ] SCiB™製造プロセスへの適用](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/6.jpg)
SCiB™製造プロセスへの適用
![[イメージ] 半導体パワーデバイスのシミュレーション・特性評価](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/7.jpg)
半導体パワーデバイスのシミュレーション・特性評価
![[イメージ] 高粘度インクジェットヘッドによる省材料塗布](/content/dam/toshiba/jp/technology/corporate/cmc/rd/core/core_micro/8.jpg)
高粘度インクジェットヘッドによる省材料塗布