開発の背景と狙い 当社は、1998年、世界で初めて低温ポリシリコンTFTを用いた大型液晶ディスプレイの量産化に成功して以来、ノートPCなどの高精細ディスプレイの製品化のみならず、メモリ搭載反射型ディスプレイの製品開発などにより、常に業界をリードしてきました。 当社は、ノートPC用の最大需要ゾーン向け製品としてこれまで14.1XGA型アモルファスTFT製品を開発、量産してきましたが、低温ポリシリコン化により、高信頼性、高品質化を図るため、現行アモルファス製品との互換性を重視した製品の開発を行ってきました。 2001年4月に当社深谷工場にて低温ポリシリコンの製造ラインを立ち上げたのに伴い、大型ノートPC向け製品が効率よく生産できる体制が整い、さらに2002年に予定しているシンガポールの新生産会社AFPD社のラインでも効率的な生産が行えることから、14.1型XGAタイプの製品を低温ポリシリコンにて開発、商品化したものです。
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