低温ポリシリコン液晶製造設備の増強について 2000年4月3日
当社は、深谷工場の大形低温ポリシリコン液晶製造棟に、380億円の追加投資を行ないます。 これにより、当社は、現在の月産3万シート(基板サイズ400 設備投資の内容 (1)新製造ライン(第3期量産ライン)は4月から設備着工し、2001年1月稼動、4月から量産を開始します。 設備投資の目的 当社は、98年8月に世界初の大形低温ポリシリコン液晶製造棟を完成させ、 99年4月から第1期量産ライン、同10月から第2期量産ラインを稼動させ、 これまで、建設費、設備費を含めて総額約300億円の設備投資を行なってきました。 当社は、今回の追加投資により、大形画面サイズの製品供給力を確保するとともに、 小形・軽量化、高精細化を図ることのできる低温ポリシリコン液晶の特性をいかし、 今後もラインナップの拡大を図っていきます。 液晶事業について 当社の液晶事業の特長は、(1)アモルファス液晶については、 当社と米国IBMの共同出資によるディスプレイ・テクノロジー株式会社(所在地:姫路市)から液晶セルとして供給を受ける一方、 (2)低温ポリシリコン液晶については、97年から独自に研究開発に取り組んで、 開発から生産まで自社一貫体制を確立して事業化してきました。 当社は、今後も低温ポリシリコン液晶の開発・生産に資源を集中するとともに、 その特長を生かした用途開発と製品群のラインアップの拡充に努めていきます。 製造棟の概要
深谷工場の概要
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